[发明专利]一种X光高温高压催化反应炉

权利要求书

1.一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，包括：气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道，所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通，所述炉腔内部设置有加热室、设置于所述加热室内的加热器和设置于所述加热室外侧的屏蔽层，所述屏蔽层上均匀设置有至少一个匀气孔，反应气体依次按照所述气体进口通道、所述屏蔽层、所述加热室的顺序流通，并通过所述气体出口通道排出。

2.根据权利要求1所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述炉腔外壁上设置铍窗法兰，所述铍窗法兰通过安装柱固定在所述炉腔上。

3.根据权利要求2所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述铍窗法兰和所述炉腔外壁之间设置有保护层，所述保护层包括镀铝铍片层和高分子薄膜层。

4.根据权利要求1所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述气体进口通道的外侧均匀地连接有至少一个气体进口支管。

5.根据权利要求4所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述炉上盖设置有至少一个开口，所述开口与对应的所述气体进口支管连通。

6.根据权利要求1所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述屏蔽层为不锈钢屏蔽层。

7.根据权利要求6所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述屏蔽层包括第一屏蔽层和第二屏蔽层。

8.根据权利要求7所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述第二屏蔽层设置在加热室的外侧，所述第一屏蔽层设置在所述第二屏蔽层外侧。

9.根据权利要求8所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述第一屏蔽层设置有至少一个匀气孔，所述第二屏蔽层设置有至少一个第二匀气孔，所述加热室设置有加热室入口。

10.根据权利要求6所述的一种X光高温高压催化反应炉，其特征在于，所述第一屏蔽层与所述炉腔形成第一流通室，所述第二屏蔽层与所述第一屏蔽层形成第二流通室，所述第二屏蔽层与所述加热室形成第三流通室。