[发明专利]包含离子性化合物的光刻胶有效
| 申请号： | 201310526492.3 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN103823331B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | G·珀勒斯;刘骢;C-B·徐;C·吴 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种新颖的光刻胶组合物，该组合物包含一种组分，所述组分包含对辐射不敏感的离子性化合物。本发明优选的光刻胶可以包含具有对光致酸不稳定的基团的树脂；光致酸生成剂化合物；以及对辐射不敏感的离子性化合物，该化合物可以用来减少光致生成的酸扩散到光刻胶涂层的未曝光区域以外的不利现象。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 离子 化合物 光刻 | ||
【主权项】：
一种光刻胶，其包含：(a)一种或多种树脂，(b)一种或多种酸生成剂；以及(c)包含以下式(I)和/或式(II)的结构的化合物:其中在式(I)中：R1,R2和R3中的一种或多种是相同的或不同的、任选取代的、包含1‑4个碳原子的烷基；R4是任选取代的，包含8‑30个碳原子的烷基或杂烷基,或者R1,R2,R3和R4中的两个或更多个结合起来形成包含所示氮阳离子的杂环或杂芳环；Y是抗衡阴离子；其中，在式(II)中，A是阴离子部分；R是包含8‑18个碳原子的直链烷基；以及X是季铵阳离子；式(I)中的Y或式(II)中的A‑R包含氨基磺酸根部分或磺酸根部分。
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