[发明专利]浸没头、浸没流场初始化和维持方法及光刻设备有效
| 申请号： | 201310513624.9 | 申请日： | 2013-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN104570613B | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 张崇明;杨志斌;聂宏飞;张洪博;罗晋;赵丹平 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种浸没头，用于浸没式光刻，浸没头包括液体进口腔体，用于填充浸液；气体供给口，用于供给气体；气液回收腔体，用于回收所述浸液和气体；磁性圈结构，当所述磁性圈结构具有吸力时，浸液封闭单元吸附于所述磁性圈结构，使所述浸液处于所述气体供给口、所述浸液封闭单元以及物镜单元构成的封闭区域内。本发明还提供浸没流场初始化和维持方法及光刻设备。本发明提供的浸没头，采用磁性圈结构进行浸没头下方的封闭操作，具有良好的可操作性和稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 初始化 维持 方法 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种浸没头，用于浸没式光刻，所述浸没头的中心位于物镜系统的主光轴上，其特征在于，从所述主光轴向外，所述浸没头包括：以所述主光轴为中心设置的液体进口腔体，所述液体进口腔体，用于填充浸液；以所述主光轴为中心设置的气液回收腔体，所述气液回收腔体，用于回收所述浸液和气体；以所述主光轴为中心设置的磁性圈结构，当所述磁性圈结构具有吸力时，浸液封闭单元吸附于所述磁性圈结构，使所述液体进口腔体、所述气液回收腔体以及所述浸液处于所述磁性圈结构、所述浸液封闭单元以及物镜单元构成的封闭区域内，所述气液回收腔体用于回收所述封闭区域内的气体或者液体；还包括以所述主光轴为中心设置的气体供给口，用于通过气体阻隔使得浸液限制在所述封闭区域内而不外泄。
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