[发明专利]低导热多孔氮化硅材料的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310507025.6 申请日: 2013-10-24
公开(公告)号: CN103553712A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 翟萍;陈达谦;董波;周长灵;王重海;王洪升;李楠 申请(专利权)人: 山东工业陶瓷研究设计院有限公司
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 马俊荣
地址: 255000 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于无机复合材料技术领域,具体涉及一种低导热多孔氮化硅材料的制备方法,包括以下步骤:待渗积基体的预处理,渗积用Al2O3-SiO2溶胶的制备,多孔氮化硅基体的真空渗积及胶凝化、老化处理,Al2O3-SiO2凝胶的干燥得到低导热多孔氮化硅材料。本发明改善了多孔氮化硅的导热性能,具有科学合理,易于实施,生产周期短,投资成本低的优点。
搜索关键词: 导热 多孔 氮化 材料 制备 方法
【主权项】:
一种低导热多孔氮化硅材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)待渗积基体的预处理:将待渗积的多孔氮化硅基体进行超声清洗及热处理;(2)渗积用Al2O3‑SiO2溶胶的制备:将铝源、无水乙醇、去离子水混合,室温下搅拌至无色透明胶体,得到胶体A,待用;将硅源、无水乙醇、去离子水、催化剂混合,室温下搅拌使硅源充分水解,得到胶体B,待用;将胶体B加入胶体A中搅拌,制得渗积用溶胶C;(3)多孔氮化硅基体的真空渗积及胶凝化、老化处理:将步骤(1)中处理后的多孔氮化硅基体置于步骤(2)制备的渗积用溶胶C中进行真空渗积,然后进行胶凝化及老化处理;(4)Al2O3‑SiO2凝胶的干燥:将步骤(3)制得的材料进行超临界干燥,得到低导热多孔氮化硅材料。
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