[发明专利]沉积装置和应用于沉积装置的掩模组件有效
| 申请号： | 201310475755.2 | 申请日： | 2013-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN104099561B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | 韩政洹 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;张川绪 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种沉积装置和掩模组件，所述沉积装置包括：掩模框架，具有框架开口；掩模，结合到掩模框架的上表面并且被构造为覆盖框架开口；延伸构件，被布置在框架开口的边缘的至少一部分上，并且被构造为从掩模框架的上表面突出并使掩模的与框架开口相对应的第一部分的竖直距离比掩模的与掩模框架的上表面接触的第二部分的竖直距离大，每个竖直距离均是从掩模框架的上表面测量的。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 应用于 模组 | ||
【主权项】：
1.一种沉积装置，所述沉积装置包括：掩模框架，具有框架开口；掩模，结合到掩模框架的上表面并且被构造为覆盖框架开口；延伸构件，被布置在框架开口的边缘的至少一部分上，并且被构造为从掩模框架的上表面突出并使掩模的与框架开口相对应的第一部分的竖直距离比掩模的与掩模框架的上表面接触的第二部分的竖直距离大，每个竖直距离均是从掩模框架的上表面测量的，其中，延伸构件被构造为在平面图中在延伸构件不与掩模框架叠置的区域中结合到掩模框架或与掩模框架分开，并且延伸构件竖直移动以与掩模的第一部分接触并固定到掩模的第一部分，其中，掩模包括结合在第一部分和第二部分之间的第三部分，延伸构件包括与掩模的第一部分接触的接触部分，在第一部分和第三部分彼此接触的部分与接触部分的面对第三部分的侧表面之间形成有间隙。
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