[发明专利]防腐剂混合物和负型光刻胶剥离剂组合物在审
申请号: | 201310452940.X | 申请日: | 2013-09-24 |
公开(公告)号: | CN103543617A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 刘超 | 申请(专利权)人: | 刘超 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42;C07D233/06;C07D235/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 266033 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种防腐剂混合物,其包括肉桂基咪唑啉和1,3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷。包含该防腐剂混合物的负型光刻胶剥离剂组合物对光刻胶层具有优良的剥离性,且不会对金属布线材料产生浸蚀,在半导体电路元件制造工序中,具有很大的优势。 | ||
搜索关键词: | 防腐剂 混合物 光刻 剥离 组合 | ||
【主权项】:
一种防腐剂混合物,其特征在于:包括肉桂基咪唑啉和1,3‑双(2‑苯并咪唑基)‑2‑氧杂丙烷。
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