[发明专利]防腐剂混合物和负型光刻胶剥离剂组合物

权利要求书

1.一种防腐剂混合物，其特征在于：包括肉桂基咪唑啉和1，3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷。

2.如权利要求1所述的防腐剂混合物，其特征在于：所述防腐剂混合物仅由肉桂基咪唑啉和1，3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷构成。

3.如权利要求1或2所述的防腐剂混合物，其特征在于：所述肉桂基咪唑啉和1，3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷混合质量比为1：1.2～1.5。

4.如权利要求1至3所述的防腐剂混合物，其特征在于：所述肉桂基咪唑啉的制备方法具体为，

将10ml分析纯的二乙烯三胺置于四口烧瓶中，升温至150℃，滴入3ml分析纯甲苯，添加22g分析纯的肉桂酸，在氮气环境下进行搅拌，再升温至170℃开始酰化脱水，反应5h以后，升温至240℃开始环化脱水3h，反应完毕后将其置于真空干燥箱中干燥，得到棕褐色粘稠状的肉桂基咪唑啉，反应式如下：

5.如权利要求1至4所述的防腐剂混合物，其特征在于：所述1，3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷的制备方法具体为，

取10.8g邻苯二胺与7g二甘醇酸，将两者混合溶于120ml浓度为6mol/L的盐酸溶液中，机械搅拌，在90℃下回流12h，待体系冷却后，用氨水调节pH值至溶液呈弱碱性，冷却，干燥，采用水-丙酮(体积比1：1)重结晶(50mL×3次)，得到白色粉末状目标产物，即为1，3-双(2-苯并咪唑基)-2-氧杂丙烷。

6.权利要求1至5所述的防腐剂混合物在制备负型光刻胶剥离剂组合物中的应用。

7.一种负型光刻胶剥离剂混合物，其特征在于：包括权利要求1至6所述的防腐剂混合物。