[发明专利]一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器

摘要

本发明公开了一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器，主要由机架、电机、减速器、气囊、同步带和带轮、摆动臂、支撑轴、支撑底板、球头万向结构、检测传感器等部件组成。本装置主要是通过杠杆机构对气囊充气以带动摆动臂抬升、下降及对抛光台施加修整力的。采用皮带轮传动方式将电机和减速器远离抛光区域放置，同时整个修整器外部安装有不锈钢防护罩以避免内部电子元器件的腐蚀。为了解决修整轮与抛光台面的接触问题，在修整端设计有球头万向结构。本发明的抛光垫修整器可以实现结构和控制方式简单，无交叉污染，修整效果好，同时显著延长抛光垫的使用寿命。

主权项

一种用于晶圆化学机械平坦化设备中的抛光垫修整器,其特征在于:该抛光垫修整器是包括机架（101）、底板支撑轴（102）、支撑底板（103）、气囊（104）、旋转减速器（105）、法兰盘式减速器（202）、旋转伺服电机（106）、摆动伺服电机（201）、球头万向结构（107）、摆动臂（108）、光电传感器（110）和接近传感器（203）组成；机架（101）与支撑底板（103）通过底板支撑轴（102）连接；气囊（104）位于支撑底板（103）上；接近传感器（203）位于支撑底板（103）上，支撑底板（103）上设有杠杆机构，摆动臂（108）的一端与杠杆机构通过螺钉连接，另一端连接球头万向结构（107）；旋转减速器（105）位于摆动臂（108）上方；旋转伺服电机（106）位于旋转减速器（105）上方；法兰盘式减速器（202）位于机架（101）顶部；光电传感器（110）位于机架（101）上方边缘；摆动伺服电机（201）位于法兰盘式减速器（202）下方，同时位于机架（101）内部。