[发明专利]一种石斛兰冷库催花的方法有效
申请号: | 201310436743.9 | 申请日: | 2013-09-23 |
公开(公告)号: | CN103477845A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 王燕君;刘伟;谭志勇;张乐萍;王亚平;闻真珍;刘运权 | 申请(专利权)人: | 东莞市粮作花卉研究所;华南农业大学 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01G7/06 |
代理公司: | 东莞市冠诚知识产权代理有限公司 44272 | 代理人: | 张作林 |
地址: | 523000 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种利用冷库进行春石斛催花的方法,选择止叶展开的植株,在风机水帘大棚栽培60天,促使假鳞茎达到完全成熟状态;再进行冷库低夜温处理30天,日间置于具有于风机水帘的标准大棚培养,处理结束后于风机水帘大棚培养约68~72天后开始开花,植株催花率100%,平均每假鳞茎开花节数6.2~7.3个,花数14.5~17.5朵,花期42~50天。本发明解决了传统催花中基地建设选址困难,运输过程成本高且损耗大且不同年份之间催花品质不一等诸多问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 石斛 冷库 方法 | ||
【主权项】:
一种石斛兰冷库催花的方法,其特征在于选择止叶完全展开的石斛兰植株,第一阶段:在风机水帘大棚栽培60天,期间控制光照强度20000lx;湿度50~80%;温度25~32度,施植物生长调节剂S3307,促使假鳞茎达到完全成熟状态;第二阶段:夜间冷库低温处理30天,日间维持正常生长栽培条件;夜间冷库处理温度为5~10℃;日间正常的栽培条件为风机水帘大棚栽培,控制光照强度20000lx;湿度60~80%,温度15~28度,且日温最高勿超30℃;第三阶段:在风机水帘大棚栽培,控制光照强度20000lx;湿度60~80%,温度15~28度,且日温最高勿超30℃,直至开花。
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