[发明专利]一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积制备SiCx纳米材料的方法有效
| 申请号： | 201310436483.5 | 申请日： | 2013-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN103498133A | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 陈新;缪晓莉 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | C23C18/12 | 分类号： | C23C18/12;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积（LP-EBID）制备SiCx多元素纳米材料的方法。将SiCl4在有机溶剂中的溶液作为液体前驱体装载到液体样品池内，然后，聚焦电子束轰击前驱体，前驱体分解，使得多元素SiCx纳米材料在Si3N4薄膜窗口上进行可控沉积。透射电镜具有很高的原位空间成像分辨率，可对材料的电子束诱导沉积（EBID）过程进行原位监控观察。此外，本发明可用于可控制备不同形状、多元素的纳米材料，以及用于制备纳米器件的核心材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 电镜中 通过 电子束 诱导 沉积 制备 sicx 纳米 材料 方法 | ||
【主权项】：
一种在透射电镜中通过电子束诱导液相沉积可控制备SiCx纳米材料的方法。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
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