[发明专利]光照射装置及光照射方法无效

专利信息
申请号: 201310424806.9 申请日: 2013-09-17
公开(公告)号: CN103658111A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 细谷浩二 申请(专利权)人: 株式会社杰士汤浅国际
主分类号: B08B7/00 分类号: B08B7/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种光照射装置及光照射方法,能保持与现有相同的有机物的除去效果,且在对具有金属配线或产生光电效应的被照射物照射光的情况下,也能防止由以光电效应为起因的静电引起的不合格品的产生等。相对于具有金属配线(m)的被照射物(W)照射紫外线,除去附着于该被照射物(W)的有机物而使用的紫外线照射装置(100),具备射出包含规定波长以下的紫外线的光的光源(1)和将从所述光源(1)射出的光向所述被照射物(W)侧反射的金属制的反射镜(3),将所述反射镜(3)与所述被照射物的间隔距离设定得比在紫外线的作用下而从所述反射镜(3)的反射面飞出的电子的可能存在距离短。
搜索关键词: 照射 装置 方法
【主权项】:
一种光照射装置,其用于对在至少一部分具有金属配线或产生光电效应的被照射物照射光,其特征在于,所述光照射装置具备:光源,其射出规定波长以下的光;反射镜,其将从所述光源射出的光向所述被照射物侧反射并且向所述被照射物侧放出电子,其中,所述反射镜的至少一部分与所述被照射物的间隔距离设定得比在光的作用下从所述反射镜的反射面飞出的电子的可能存在距离短。
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