[发明专利]光照射装置及光照射方法

说明书

技术领域

本发明涉及为了对在至少一部分上具有金属配线或产生光电效应的被照射物照射光而使用的光照射装置及光照射方法。

背景技术

在半导体制造工序等中，由于例如从树脂制部件放出的有机物气体，会在基板表面上附着有有机物。这样的基板上的有机物使制品的品质降低，因此，通过对基板上照射规定波长以下的紫外线，来除去附着于基板上的有机物。

例如，在专利文献1中公开了通过对基板照射172nm的紫外线能有效地除去基板上的有机物等。另外，在专利文献1中还公开了通过照射具有172nm左右的波长的紫外线来除去蓄积在基板上的电荷。

但是，在进行如专利文献1公开那样的近年来使用的通过对形成有金属配线的基板照射短波长的紫外线来除去有机物时，产生不合格品的概率比以往高。

关于该问题，本申请发明人进行了仔细钻研，结果发现产生以下那样的现象。

首先，在对具有金属配线的基板照射规定波长以下的紫外线时，由于光电效应而从金属配线飞出大量的电子，金属配线以正电位带电。

而且，该金属配线的带电效果有时高于紫外线照射产生的静电的除去效果，结果，成为即使在基板整体照射紫外线也残留有静电的状态。

即，在对具有金属配线的基板等被照射物照射规定波长以下的紫外线时，存在由于以光电效应为起因的静电而引发制品故障的情况。另外，除了具有金属配线的基板以外，只要是在至少一部分上具有可能由于照射紫外线而产生光电效应的金属或半导体的被照射物，照射规定波长以下的紫外线时都会产生与上述同样的问题。

专利文献

专利文献1：日本特开2001—293443号公报

发明内容

本发明是为了解决上述那样的由本申请发明人首先发现的问题而做成的，其目的在于提供保持与现有相同的例如紫外线照射实现的有机物的除去效果等主要效果，且对在至少一部分上具有金属配线或产生光电效应的被照射物照射紫外线的情况下，也能防止在至少一部分上具有金属配线或产生光电效应的被照射物的由于以光电效应为起因的静电引起的产生不合格品等的光照射装置及光照射方法。

即，本发明的光照射装置用于对在至少一部分具有金属配线或产生光电效应的被照射物照射光，其特征在于，所述光照射装置具备：光源，其射出规定波长以下的光；反射镜，其将从所述光源射出的光向所述被照射物侧反射并且向所述被照射物侧放出电子，其中，所述反射镜的至少一部分与所述被照射物的间隔距离设定得比在光的作用下从所述反射镜的反射面飞出的电子的可能存在距离短。

这样，由于所述反射镜的至少一部分与所述被照射物的间隔距离设定得比在光的作用下从所述反射镜的反射面飞出的电子的可能存在距离短，因此，能对所述被照射物照射由所述反射镜反射的光，并且也能供给从所述反射镜飞出的电子。

从而，能使在光的作用下利用光电效应从具有金属配线或产生光电效应的被照射物飞出的电子量与从反射镜向具有金属配线或产生光电效应的被照射物供给的电子量平衡，能防止具有金属配线或产生光电效应的被照射物以正电位带电。因此，能抑制被照射物由于静电而带电所引起的不合格品的产生概率。

另外，由于从反射镜向被照射物照射光，因此与能以往同样地除去附着的有机物。

作为本发明的能向被照射物供给电子且适于较好地除去有机物的紫外线的波长，例举出从所述光源射出的光含有300nm以下的紫外线的光。

另外，优选为，从所述光源射出的光为含有200nm以下的紫外线的光。

另外，优选为，从所述光源射出的光为包含172nm以下的紫外线的光。

也可以具备气体供给机构，该气体供给机构向反射镜的至少周围供给电子亲和力小于规定值的气体。

为了降低光中的、不使从反射镜飞出电子而仅从具有金属配线或产生光电效应的被照射物飞出电子的比例，使从具有金属配线或产生光电效应的被照射物飞出的电子量与从反射镜供给的电子量之间的平衡状态容易成立，也可以还具备主要使在所述反射镜反射的光通过的遮光结构。

为了防止从反射镜飞出的电子再次返回反射镜而增加向被照射物的电子的供给量，也可以使所述反射镜带负电。这样，在反射镜与电子之间产生斥力，因此，更容易将电子向被照射物侧引导，能增加电子的供给量。

另外，为了减少向反射镜返回的电子量，也可以具备设于所述反射镜与所述被照射物之间、带正电的电子吸引构件。