[发明专利]基于场效应晶体管结构的气体传感器及其制备方法有效
申请号: | 201310397762.5 | 申请日: | 2013-09-04 |
公开(公告)号: | CN103500798A | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 王凤霞;潘革波 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40;G01N27/414 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 宋鹰武;沈祖锋 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种基于场效应晶体管结构的气体传感器及其制备方法。该气体传感器包括基底层、栅绝缘层、有源层、源电极和漏电极,所述栅绝缘层与有源层连接,栅绝缘层与有源层设置于基底层之间,栅电极、源电极和漏电极分别设置于基底层上,所述栅绝缘层由具有微结构的绝缘材料组成;所述具有微结构的绝缘材料为氧化物或绝缘聚合物。本发明通过在绝缘材料上构造微结构而制备栅绝缘层,当往上述微结构的栅绝缘层里通入气体时,栅绝缘层的电容发生变化,进而引起场效应晶体管性能的改变,从而达到气体检测的目的。本发明的气体传感器检测范围广,可实现多种气体的检测。得到的气体传感器的体积小,可以减小检测器件的体积和成本,有较好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 基于 场效应 晶体管 结构 气体 传感器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于场效应晶体管结构的气体传感器,包括基底层、栅绝缘层、有源层、栅电极、源电极和漏电极,所述栅绝缘层与有源层连接,栅绝缘层与有源层设置于基底层之间,栅电极、源电极和漏电极分别设置于基底层上,其特征在于,所述栅绝缘层由具有微结构的绝缘材料组成;所述具有微结构的绝缘材料为氧化物或绝缘聚合物。
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