[发明专利]基于场效应晶体管结构的气体传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310397762.5 申请日: 2013-09-04
公开(公告)号: CN103500798A 公开(公告)日: 2014-01-08
发明(设计)人: 王凤霞;潘革波 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/40;G01N27/414
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 宋鹰武;沈祖锋
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于场效应晶体管结构的气体传感器及其制备方法。该气体传感器包括基底层、栅绝缘层、有源层、源电极和漏电极,所述栅绝缘层与有源层连接,栅绝缘层与有源层设置于基底层之间,栅电极、源电极和漏电极分别设置于基底层上,所述栅绝缘层由具有微结构的绝缘材料组成;所述具有微结构的绝缘材料为氧化物或绝缘聚合物。本发明通过在绝缘材料上构造微结构而制备栅绝缘层,当往上述微结构的栅绝缘层里通入气体时,栅绝缘层的电容发生变化,进而引起场效应晶体管性能的改变,从而达到气体检测的目的。本发明的气体传感器检测范围广,可实现多种气体的检测。得到的气体传感器的体积小,可以减小检测器件的体积和成本,有较好的应用前景。
搜索关键词: 基于 场效应 晶体管 结构 气体 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种基于场效应晶体管结构的气体传感器,包括基底层、栅绝缘层、有源层、栅电极、源电极和漏电极,所述栅绝缘层与有源层连接,栅绝缘层与有源层设置于基底层之间,栅电极、源电极和漏电极分别设置于基底层上,其特征在于,所述栅绝缘层由具有微结构的绝缘材料组成;所述具有微结构的绝缘材料为氧化物或绝缘聚合物。
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