[发明专利]一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极有效

专利信息
申请号: 201310394901.9 申请日: 2013-09-04
公开(公告)号: CN103456802A 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 刘玮;程龙;孙云;李祖亮;周志强;张毅 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,用薄层Ag作为应力缓冲层并与Mo薄膜构成复合结构,由聚酰亚胺衬底、薄Mo薄膜层、Ag薄膜层和厚Mo薄膜层依次叠加构成,薄Mo薄膜层为高阻Mo层,Ag薄膜层为应力缓冲层,厚Mo薄膜层为阻挡层,阻挡层为双层Mo薄膜;该背电极用于铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极。本发明的优点是:采用简单、低廉的磁控溅射技术,制备薄Ag薄膜作为应力缓冲层来平衡聚酰亚胺衬底与Mo之间热膨胀系数不匹配所带来的应力,这种复合结构的背电极电阻率比较低,其反射率比较高,对于超薄CIGS电池效率的提升具有重要作用。
搜索关键词: 一种 用于 聚酰亚胺 衬底 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 电极
【主权项】:
一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于:该背电极用薄层Ag作为应力缓冲层并与Mo薄膜构成复合结构,由聚酰亚胺衬底(PI)、薄Mo薄膜层、Ag薄膜层和厚Mo薄膜层依次叠加构成,薄Mo薄膜层为高阻Mo层,薄膜厚度为50‑80nm;Ag薄膜层为应力缓冲层,薄膜厚度为50‑80nm;厚Mo薄膜层为阻挡层,阻挡层为双层Mo薄膜,第一层Mo薄膜厚度为100‑200nm,第二层Mo薄膜厚度为600‑700nm。
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