[发明专利]一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极有效
申请号: | 201310394901.9 | 申请日: | 2013-09-04 |
公开(公告)号: | CN103456802A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 刘玮;程龙;孙云;李祖亮;周志强;张毅 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,用薄层Ag作为应力缓冲层并与Mo薄膜构成复合结构,由聚酰亚胺衬底、薄Mo薄膜层、Ag薄膜层和厚Mo薄膜层依次叠加构成,薄Mo薄膜层为高阻Mo层,Ag薄膜层为应力缓冲层,厚Mo薄膜层为阻挡层,阻挡层为双层Mo薄膜;该背电极用于铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极。本发明的优点是:采用简单、低廉的磁控溅射技术,制备薄Ag薄膜作为应力缓冲层来平衡聚酰亚胺衬底与Mo之间热膨胀系数不匹配所带来的应力,这种复合结构的背电极电阻率比较低,其反射率比较高,对于超薄CIGS电池效率的提升具有重要作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 聚酰亚胺 衬底 铜铟镓硒 薄膜 太阳能电池 电极 | ||
【主权项】:
一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于:该背电极用薄层Ag作为应力缓冲层并与Mo薄膜构成复合结构,由聚酰亚胺衬底(PI)、薄Mo薄膜层、Ag薄膜层和厚Mo薄膜层依次叠加构成,薄Mo薄膜层为高阻Mo层,薄膜厚度为50‑80nm;Ag薄膜层为应力缓冲层,薄膜厚度为50‑80nm;厚Mo薄膜层为阻挡层,阻挡层为双层Mo薄膜,第一层Mo薄膜厚度为100‑200nm,第二层Mo薄膜厚度为600‑700nm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的