[发明专利]一种化学机械设备抛光液无效
| 申请号： | 201310387790.9 | 申请日： | 2013-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN103468147A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 张竹香 | 申请（专利权）人： | 青岛承天伟业机械制造有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266199 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械设备抛光液，包括下列重量份数的物质：硫氰酸盐15-35份，水杨酸盐15-25份，乙烯基双硬脂酰胺7-16份，硬脂酸单甘油酯9-13份，三硬脂酸甘油酯9-14份，还原剂1-3份，柔软剂5-8份，除杂剂7-10份，处理剂11-18份，二氧化钛3-5份，磷酸二氢钾2-4份，分子筛1-2份，硅藻土1份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉1份，空心玻璃微珠1-2份。本发明的化学机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率，而对铜和二氧化硅的去除速率影响不大，同时可减少被抛光材料的表面污染物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械设备 抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械设备抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：硫氰酸盐15‑35份，水杨酸盐15‑25份，乙烯基双硬脂酰胺7‑16份，硬脂酸单甘油酯9‑13份，三硬脂酸甘油酯9‑14份，还原剂1‑3份，柔软剂5‑8份，除杂剂7‑10份，处理剂11‑18份，二氧化钛3‑5份，磷酸二氢钾2‑4份，分子筛1‑2份，硅藻土1份，硼酸钠2‑4份，片层结构的云母粉1份，空心玻璃微珠1‑2份。
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