[发明专利]激光光斑成像技术测量沉降法无效
| 申请号： | 201310372800.1 | 申请日： | 2013-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN103411585A | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 陈庆根 | 申请（专利权）人： | 杭州珏光物联网科技有限公司 |
| 主分类号： | G01C5/00 | 分类号： | G01C5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310012 浙江省杭州市学*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测量两个测量点随时间变化的相对沉降的装置，即将一个经过准直的平行激光束照射到另外一个被测点，在另外的被测点的一个光学成像系统的靶面上，靶面的光斑位置可以被内部的面阵或线阵CCD/CMOS成像系统准确测量，从而确定了两者之间的相对垂直沉降或水平位移；系统由平行激光光源1、成像靶面2、透镜3、光电探测器4、信号处理系统5构成；图中，虚线框6是第一测试点，右边虚线框7为第二测试点；为了实现级联测量，一般的仪器中同时包含平行激光光源1和测量单元7。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 光斑 成像 技术 测量 沉降 | ||
【主权项】：
激光光斑成像技术测量沉降法，其特征在于，安装于第一测试点的为能发射平行激光的激光光源1，第一测试点为参考测试点，安装于第二测试点的激光光斑成像系统及信号处理系统单元；该系统将测量到的光斑信号进行图形处理，找出其中心点，确定中心点的坐标位置，根据该坐标位置可以和上次测量的数据比较从而测得第一测试点和第二测试点的位置的相对位置变化，从而测量得到两个测试点的沉降和水平位移。
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