[发明专利]激光光斑成像技术测量沉降法无效
申请号: | 201310372800.1 | 申请日: | 2013-08-19 |
公开(公告)号: | CN103411585A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | 陈庆根 | 申请(专利权)人: | 杭州珏光物联网科技有限公司 |
主分类号: | G01C5/00 | 分类号: | G01C5/00 |
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地址: | 310012 浙江省杭州市学*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光 光斑 成像 技术 测量 沉降 | ||
1.激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,安装于第一测试点的为能发射平行激光的激光光源1,第一测试点为参考测试点,安装于第二测试点的激光光斑成像系统及信号处理系统单元;该系统将测量到的光斑信号进行图形处理,找出其中心点,确定中心点的坐标位置,根据该坐标位置可以和上次测量的数据比较从而测得第一测试点和第二测试点的位置的相对位置变化,从而测量得到两个测试点的沉降和水平位移。
2.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,根据这一测量法,将激光光斑成像测量系统与激光光源组成一台可以级联的激光光斑成像沉降测量仪,从而使沉降测量组网。
3.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,激光光斑成像探测器可以是CCD、CMOS光电转换器件,或者是其他光电转换器件。可以是面阵、也可以是线阵的CCD或CMOS器件。
4.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,激光光源可以是可见的激光器,也可以是红外激光器。
5.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,激光光源是一种半导体激光器,发射的激光的平行度好,在成像系统的靶面上形成尺寸小于20mm的光斑。
6.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,成像靶面采用毛玻璃或其他能将激光光斑投影好的屏幕,该屏幕可以是带滤色效果的,即只能通过激光波长而其他光不能通过,也可以不带滤色效果,采用信号处理的方法找出激光点的中心位置。
7.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,成像系统的靶面大小可以是不同的大小,从10mmx10mm到500mmx500mm,靶面的形状可以是正方形,也可以是长方形。
8.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,系统可以将拍摄到的图形进行转换,通过图形处理算法找出光斑的中心点相对于成像系统的坐标。
9.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,系统可以输出激光光斑的坐标数据,数据接口是RS232、485,也可以是其他接口,如以太网以及其他无线网络;也可以采用显示单元直接显示当前的沉降数据。
10.根据权利要求1所述的激光光斑成像技术测量沉降法,其特征在于,从激光光源对准到另外一个测量仪的成像靶面时,光线可以是水平的,也可以是倾斜的。
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