[发明专利]遮光图案的制造方法无效
申请号: | 201310370893.4 | 申请日: | 2013-08-22 |
公开(公告)号: | CN104422975A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 王威捷;蔡益明;林圣贤 | 申请(专利权)人: | 明兴光电股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B1/14 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;赵根喜 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种遮光图案的制造方法,其包括以下步骤。提供基板。基板具有透光区以及位于透光区的周边的遮光区。于透光区上形成保护层。于遮光区上形成遮光材料层。移除保护层,以形成遮光图案。 | ||
搜索关键词: | 遮光 图案 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种遮光图案的制造方法,其特征在于,包括:提供基板,所述基板具有透光区以及位于所述透光区的周边的遮光区;于所述透光区上形成保护层;于所述遮光区上形成遮光材料层;以及移除所述保护层,以形成所述遮光图案。
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