[发明专利]遮光图案的制造方法无效

专利信息
申请号: 201310370893.4 申请日: 2013-08-22
公开(公告)号: CN104422975A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 王威捷;蔡益明;林圣贤 申请(专利权)人: 明兴光电股份有限公司
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B1/14
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;赵根喜
地址: 中国台湾新竹县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种遮光图案的制造方法,其包括以下步骤。提供基板。基板具有透光区以及位于透光区的周边的遮光区。于透光区上形成保护层。于遮光区上形成遮光材料层。移除保护层,以形成遮光图案。
搜索关键词: 遮光 图案 制造 方法
【主权项】:
一种遮光图案的制造方法,其特征在于,包括:提供基板,所述基板具有透光区以及位于所述透光区的周边的遮光区;于所述透光区上形成保护层;于所述遮光区上形成遮光材料层;以及移除所述保护层,以形成所述遮光图案。
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