[发明专利]球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法有效
申请号: | 201310355528.6 | 申请日: | 2013-08-15 |
公开(公告)号: | CN103436848A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 彭寿;张家林;王芸;彭小波;王华文 | 申请(专利权)人: | 蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所 34113 | 代理人: | 李浩 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法,将球形粉体置于真空雾化罐中,真空雾化罐内设置有阴极溅射靶材和阳极体,在真空环境下,通过电场或磁场加速的高能粒子撞击阴极溅射靶材表面时,靶材表面的原子分子和高能粒子进行动量交换,从而使靶材原子或者分子从靶材表面飞溅出来,并且具备一定的能量,碰撞到雾化悬浮在真空中的球形粉体,从而实现球形粉体上的薄膜沉积。本发明能生产耐高低温、耐高压、耐潮湿、耐腐蚀、抗氧化等功能的,具有性能优良,满足不同要求的,具有特殊功能的高性能球形粉体材料,以及球形金属粉体的抗氧化表面功能化处理。 | ||
搜索关键词: | 球形 材料 真空 雾化 悬浮 均匀 溅射 镀膜 方法 | ||
【主权项】:
球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法,其特征在于:将球形粉体(8)置于真空雾化罐中,真空雾化罐内设置有阴极溅射靶材(5)和阳极体(11),在真空环境下,通过电场或磁场加速的高能粒子撞击阴极溅射靶材(5)表面时,靶材表面的原子分子和高能粒子进行动量交换,从而使靶材原子或者分子从靶材表面飞溅出来,并且具备一定的能量,碰撞到雾化悬浮在真空中的球形粉体(8),从而实现球形粉体(8)上的薄膜沉积。
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