[发明专利]球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法

权利要求书

1.球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法，其特征在于：将球形粉体（8）置于真空雾化罐中，真空雾化罐内设置有阴极溅射靶材（5）和阳极体（11），在真空环境下，通过电场或磁场加速的高能粒子撞击阴极溅射靶材（5）表面时，靶材表面的原子分子和高能粒子进行动量交换，从而使靶材原子或者分子从靶材表面飞溅出来，并且具备一定的能量，碰撞到雾化悬浮在真空中的球形粉体（8），从而实现球形粉体（8）上的薄膜沉积。

2.根据权利要求1所述的球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法，其特征在于：所述真空雾化罐包括罐体和安装在罐体上的镀膜气体管（3）和抽真空装置（10），所述罐体由圆柱形罐身和圆锥形罐底组成，圆柱形罐身内设置的过滤网（6）将其分成两个腔体，阴极溅射靶材（5）和阳极体（11）对称安装在过滤网（6）上；圆锥形罐底设置有球形粉体雾化悬浮器（7）以及安装在其上的雾化悬浮量控制装置（15）。

3.根据权利要求2所述的球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法，其特征在于：所述圆柱形罐身的顶部中心设置有进料端口（20），在进料端口（20）上设置有进料端真空密封板（18）和真空密封圈（19），在圆锥形罐底设置有放料端口（17），在放料端口（17）设置有放料端真空密封板（16）。

4.根据权利要求1或2所述的球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法，其特征在于：在所述阴极溅射靶材（5）与圆柱形罐身连接处设置有电极绝缘体（4）。

5.根据权利要求2所述的球形粉体材料真空雾化悬浮均匀溅射镀膜方法，其特征在于：所述镀膜气体管（3）上设置有流量控制阀（2），在抽真空装置（10）与圆柱形罐身结合处设置有球形粉体多级过滤器（9）。