[发明专利]一种碱性阻挡层化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201310354652.0 | 申请日： | 2013-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN104371551B | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 王晨;周文婷;何华锋;高嫄 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种包含有硅烷偶联剂的碱性阻挡层化学机械抛光液，其可以实现碱性阻挡层化学机械抛光液的高倍浓缩和胶体的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 阻挡 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种碱性阻挡层化学机械抛光液，其特征在于，由氧化剂、络合剂、质量百分比大于或等于15％的二氧化硅研磨颗粒、唑类、含硅的有机化合物、以及含有大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子组成，其中，所述含硅的有机化合物为自由分散在水相中，或已经和研磨颗粒之间通过化学键相连，所述大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子是钾离子，络合剂是丙二酸、柠檬酸、甘氨酸，其中，所述含硅的有机化合物具有如下分子结构：其中，R为不能水解的取代基；D是连接在R上的有机官能团；A,B为相同的或不同的可水解的取代基或羟基；C是可水解基团或羟基，或不可水解的烷基取代基；D为氨基、巯基、环氧基、丙烯酸基、乙烯基、丙烯酰氧基或脲基。
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