[发明专利]一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法有效
| 申请号： | 201310352313.9 | 申请日： | 2013-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN103436851A | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 陈桂涛;孙天乐;孙强;黄西平 | 申请（专利权）人： | 西安理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 710048*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法，首先采样磁控溅射电源输出电压、电流，根据电压斜率和电流幅值进行电弧侦测，判断电弧是否产生；其次，根据电弧产生的电流幅值大小进行电弧分类，将电弧分为第一电弧类型和第二电弧类型；最后对第一电弧类型和第二电弧类型分别进行灭弧处理。本发明能够快速检测和熄灭磁控溅射工艺中产生的电弧，方法简单、切实可行、易于实现，弥补了以往电弧检测和熄灭方法中存在的误检测和漏检测，工艺区间丢失问题，可以有效保护溅射靶、工艺区间和电源。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 磁控溅射 工艺 电弧 熄灭 方法 | ||
【主权项】：
一种用于磁控溅射工艺的电弧熄灭方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：步骤1：利用电压、电流霍尔传感器采集磁控溅射电源输出电压电流，以电流幅值和电压跌落速率共同作为判断依据进行电弧侦测；步骤2：在电源控制器中对步骤1侦测到的电弧进行灭弧处理。
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