[发明专利]一种通过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法

摘要

本发明涉及一种过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法，属于光学薄膜材料领域。本发明采用溶胶-凝胶技术，以调节薄膜的孔隙率为手段，利用两步提拉工艺获得了具有折射率梯度的二氧化硅宽带增透膜。与一般宽带增透材料相比，本产品具有成本低、工艺简单、光学性能好、机械强度高以及抗激光损伤能力强等优点，在可见光波段的平均透过率可达99.8%，可广泛用于大屏幕显示器、玻璃橱窗、太阳能电池以及高功率激光系统等领域。

主权项

一种通过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法，其特征在于具体步骤如下：(1)采用下述方法制备高孔隙率/低折射率薄膜对应的溶胶将正硅酸乙酯、无水乙醇、氨水和去离子水按体积比1：10：（0.15‑0.4）：（0‑0.15）在常温下混合搅拌1小时以上，之后将溶液密封常温下老化3‑8天，最后78℃回流2‑6小时得到稳定的溶胶； (2)采用下述任一种方法制备低孔隙率/高折射率薄膜对应的溶胶将正硅酸乙酯、无水乙醇、催化剂、去离子水按体积比1：10：（0.05‑0.5）：（0.05‑0.3）在常温下混合搅拌50‑70分钟，然后静置3‑10小时得到稳定的溶胶；所述催化剂为浓度为36%‑38%的盐酸或醋酸；或者：将无水乙醇、氨水、去离子水和聚乙二醇在常温下混合搅拌10分钟以上，快速加入正硅酸乙酯继续搅拌1小时，之后将溶液密封常温下老化2‑4天，最后78℃回流2‑6小时得到稳定的溶胶；正硅酸乙酯、无水乙醇、氨水、去离子水和聚乙二醇的体积比为1：10：（0.15‑0.4）：（0‑0.15）：（0.1‑0.3），聚乙二醇的分子量为400或600；(3) 双层膜的制备将洁净的玻璃基底竖直浸入到步骤(2)所得的溶胶中，以0.5‑5mm/s的速度匀速提拉，提拉结束后在空气中自然干燥2分钟，然后浸入到步骤(1)所得的溶胶中，以0.5‑3mm/s的速度匀速提拉，最后对制得的双层膜样品进行热处理。