[发明专利]玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法无效

专利信息
申请号: 201310318446.4 申请日: 2013-07-26
公开(公告)号: CN104341111A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 张欣华;黄慧清;李沅达;陈泓邑;黄兆畅;林瑞钦;叶容凯;张世群;罗中育;陈钦典;简文鸿 申请(专利权)人: 睿志达光电(深圳)有限公司;正达国际光电股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00
代理公司: 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 代理人: 哈达
地址: 518109 广东省深圳市宝安区龙华街道东环*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种玻璃蚀刻液再生方法,利用钾离子化合物与老化的玻璃蚀刻液进行搅拌反应,通过过滤去除老化液中的可溶性玻璃渣。对老化液进行离子交换处理,金属离子。此外,在老化液中加入适量的氢氟酸,进而再生出符合玻璃蚀刻要求的玻璃蚀刻液。本发明的还提供一种玻璃蚀刻方法,在玻璃蚀刻过程中使用钾离子化合物去除玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣。本发明可提高玻璃蚀刻的蚀刻率。
搜索关键词: 玻璃 蚀刻 再生 方法
【主权项】:
一种玻璃蚀刻液再生方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(a)在含有老化物质氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钾离子化合物并进行搅拌反应,使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内;(b)对搅拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理,去除沉淀;(c)对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理,去除玻璃蚀刻液液中的金属离子,使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值;及(d)检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氢氟酸浓度,并根据该氢氟酸浓度在该离子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氢氟酸,使氢氟酸的浓度达到一预定浓度。
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