[发明专利]玻璃蚀刻液再生方法及玻璃蚀刻方法

权利要求书

1.一种玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

（a）在含有老化物质氟硅酸以及可溶性玻璃渣的玻璃蚀刻液中加入钾离子化合物并进行搅拌反应，使该玻璃蚀刻液中的可溶性玻璃渣浓度降至一预定范围内；

（b）对搅拌反应之后的玻璃蚀刻液进行过滤处理，去除沉淀；

（c）对过滤处理之后的玻璃蚀刻液进行离子交换处理，去除玻璃蚀刻液液中的金属离子，使得玻璃蚀刻液中的金属离子浓度低于一预定值；及

（d）检测离子交换处理后的玻璃蚀刻液中的氢氟酸浓度，并根据该氢氟酸浓度在该离子交换处理后的玻璃蚀刻液中加入氢氟酸，使氢氟酸的浓度达到一预定浓度。

2.如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，该方法在步骤（a）之前还包括：

对玻璃蚀刻液中所含的可溶性玻璃渣浓度进行检测，当该可溶性玻璃渣浓度小于或等于一阈值时，再进入步骤（a）。

3.如权利要求2所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述阈值为30%。

4.如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述钾离子化合物为KOH、KF、KCL以及KNO₃中的其中之一。

5.如权利要求1所述的玻璃蚀刻液再生方法，其特征在于，所述预定值为1%，所述预定浓度大于8%。

6.一种玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

将装有玻璃蚀刻液以及被蚀刻玻璃的蚀刻槽通过第一管道与一过滤机的入口连通，将过滤机的输出口通过一第二管道与蚀刻槽连通，并将装有钾离子化合物溶液的化合物容器通过一第三管道与第一管道靠近蚀刻槽的一端连通；

持续取样检测蚀刻槽中可溶性玻璃渣浓度；

当检测到蚀刻槽中的可溶性玻璃渣浓度高于第一预定门槛值时，将蚀刻槽中的玻璃蚀刻液和化合物容器中的钾离子化合物溶液逐步输出至第一管道进行反应；

将第一管道中反应后的玻璃蚀刻液经过过滤机进行过滤，去除沉淀；

将经过滤之后的玻璃蚀刻液经第二管道输入蚀刻槽中对玻璃进行蚀刻。

7.如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法还包括：

对蚀刻槽中的玻璃蚀刻液进行升温，使蚀刻槽中的玻璃蚀刻液维持在一预定温度下。

8.如权利要求7所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述预定温度为35℃。

9.如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述第一预定门槛值为3%。

10.如权利要求6所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，该方法还包括：

持续取样检测蚀刻槽中的氢氟酸浓度；及

当检测到蚀刻槽中的氢氟酸浓度低于一第二预定门槛值时，向蚀刻槽中逐步加入氢氟酸溶液，使蚀刻槽中的氢氟酸浓度达到一预定浓度范围。

11.如权利要求10所述的玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述第二预定门槛值为8%，所述预定浓度范围为8%-20%。