[发明专利]基于震荡式反应气体控制的反应溅射系统有效
| 申请号： | 201310312221.8 | 申请日： | 2013-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN103436847B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 郭俊 | 申请（专利权）人： | 无锡元创华芯微机电有限公司;江苏永康机械有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/54;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214200 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于震荡式反应气体控制的反应溅射系统，包括真空腔室及反应气体管路与载气管路，所述真空腔室内设置有相对的阳极晶圆载台与阴极靶材；所述反应溅射系统还包括气体流量控制系统，所述气体流量控制系统包括计算机、流量控制器、反应气体质量流量计及载气质量流量计，所述反应气体质量流量计与所述载气质量流量计分别设置在所述反应气体管路与所述载气管路中；所述计算机通过所述流量控制器控制所述反应气体质量流量计，使进入所述真空腔室的反应气体流量为周期性震荡流量。本发明通过周期性震荡的反应气体流量，使得整个溅射过程实现了动态的稳定，并进而稳定获得所需要的金属化合物成分。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 震荡 反应 气体 控制 溅射 系统 | ||
【主权项】：
一种基于震荡式反应气体控制的反应溅射系统，包括真空腔室(1)及分别与所述真空腔室(1)相连通的反应气体管路(5)与载气管路(6)，所述真空腔室(1)内设置有相对的阳极晶圆载台(4)与阴极靶材(3)；其特征是：所述反应溅射系统还包括气体流量控制系统，所述气体流量控制系统包括计算机(7)、流量控制器(8)、反应气体质量流量计(9)及载气质量流量计(10)，所述反应气体质量流量计(9)与所述载气质量流量计(10)分别设置在所述反应气体管路(5)与所述载气管路(6)中，所述反应气体质量流量计(9)及所述载气质量流量计(10)分别与所述流量控制器(8)相连，所述流量控制器(8)与所述计算机(7)相连；所述计算机(7)通过所述流量控制器(8)控制所述反应气体质量流量计(9)，使从所述反应气体管路(5)进入所述真空腔室(1)的反应气体流量为周期性震荡流量；反应气体的控制过程如下：在T0时间将反应气体流量设为F1，在T1时间将反应气体流量设为F2，再在T2时间将反应气体流量设为F1，以此类推；其中T0‑T1时间为起始时间，为T始；T1‑T2时间为TF2，表现为F2流量时的时间；T2‑T3时间为TF1，表现为F1流量时的时间，以此类推，形成震荡；所述阳极晶圆载台(4)设置于所述真空腔室(1)的底部，所述阴极靶材(3)设置于所述真空腔室(1)的顶部，所述反应气体管路(5)与所述载气管路(6)分别设置于所述真空腔室(1)的侧壁上；所述反应气体管路(5)的出口位置与所述阴极靶材(3)相对应，所述载气管路(6)的出口位置与所述阳极晶圆载台(4)相对应。
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