[发明专利]基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置有效
| 申请号： | 201310290506.6 | 申请日： | 2013-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN103323896A | 公开（公告）日： | 2013-09-25 |
| 发明（设计）人： | 王钦华;宋艳芹;楼益民;曹冰;李孝峰 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B5/22 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置，所述装置包括基底、依次位于基底上的第一金属层、绝缘体层和第二金属层，所述第一金属层、绝缘体层和第二金属层构成若干等离子谐振腔，所述等离子激元光谱吸收装置具有若干基于纳米压印技术压印而成的压缩腔，压缩腔之间形成有若干光栅结构，所述光栅周期至少在沿X方向或Z方向或同时两个方向上是线性啁啾的。本发明通过适当调整光栅啁啾系数和上金属层/绝缘体层/下金属层谐振腔的模压深度来实现和拓宽整个禁带的带宽，给实现低且平坦的反射禁带提供了可能。在相位匹配和亚波长尺寸的限制条件下，通过适当的设计，可以实现宽带的近完美吸收。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 纳米 压印 技术 周期 啁啾 结构 等离子 光谱 吸收 装置 | ||
【主权项】：
一种基于纳米压印技术的周期式啁啾结构等离子激元光谱吸收装置，所述装置包括基底、依次位于基底上的第一金属层、绝缘体层和第二金属层，所述第一金属层、绝缘体层和第二金属层构成若干等离子谐振腔，其特征在于，所述等离子激元光谱吸收装置具有若干基于纳米压印技术压印而成的压缩腔，压缩腔之间形成有若干光栅结构，所述光栅周期至少在沿X方向或Z方向或同时两个方向上是线性啁啾的。
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