[发明专利]曝光装置、曝光系统及曝光方法有效
| 申请号： | 201310259659.4 | 申请日： | 2013-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN103353710A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 万冀豫;吴洪江;黄常刚;王耸;张继凯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/24 | 分类号： | G03F7/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置、曝光系统及曝光方法，该曝光装置包括：提供曝光光线的光源系统，所述曝光光线为扩散光线；曝光光线经由掩模板照射到待曝光基板上，将所述掩模板的图案光刻到所述基板上。本发明的技术方案可以有效解决在大尺寸液晶显示装置基板制作过程中，因掩模板弯曲变形造成的基板上曝光图形尺寸偏差的问题，保证了基板图形关键尺寸准确性，进而改善了液晶显示装置的显示品质。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括：提供曝光光线的光源系统，所述曝光光线为扩散光线；曝光光线经由掩模板照射到待曝光基板上，将所述掩模板的图案光刻到所述基板上。
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