[发明专利]安检机行李通过过程中减少辐射泄漏量的装置有效
| 申请号： | 201310257461.2 | 申请日： | 2013-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN103345953A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 杨邦达;彭宁嵩;吴家荣 | 申请（专利权）人： | 上海高晶影像科技有限公司 |
| 主分类号： | G21F3/00 | 分类号： | G21F3/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 雷绍宁 |
| 地址： | 200083 上海市杨浦区翔*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种安检机行李通过过程中减少辐射泄漏量的装置，包括机箱、输送带、以及设在机箱入口和出口处的第一屏蔽帘，所述第一屏蔽帘的内侧或外侧设有与机箱相连接的第二屏蔽帘，所述第二屏蔽帘的下端向下延伸至输送带的上表面，所述第一屏蔽帘与第二屏蔽帘之间形成一密闭空间。该安检机中，通过在第一屏蔽帘的外侧或内侧加装一个第二屏蔽帘，且使第一屏蔽帘与第二屏蔽帘之间形成一密闭空间，从而在人流量多且密集的场合中，当行李一件件紧挨着过的时候，使第一屏蔽帘或第二屏蔽帘处于完全放下状态，进而极大地减少行李通过过程中机箱内X射线的泄漏量，从而保证安检机周围人员（特别是操作人员）的身体健康，故其具有非常重大的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 安检 行李 通过 过程 减少 辐射 泄漏 装置 | ||
【主权项】：
一种安检机行李通过过程中减少辐射泄漏量的装置，包括机箱（1）、输送带（2）、以及设在机箱（1）入口和出口处的第一屏蔽帘（3），其特征在于：所述第一屏蔽帘（3）的内侧或外侧设有与机箱（1）相连接的第二屏蔽帘（4），所述第二屏蔽帘（4）的下端向下延伸至输送带（2）的上表面，所述第一屏蔽帘（3）与第二屏蔽帘（4）之间形成一密闭空间。
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