[发明专利]线性双折射测量装置和测量方法有效

专利信息
申请号: 201310250980.6 申请日: 2013-06-21
公开(公告)号: CN103308175A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 曾爱军;刘龙海;邓柏寒;朱玲琳;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G01J4/04 分类号: G01J4/04
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种线性双折射测量装置与方法,该装置包括光源模块和测量模块,光源模块由准直光源、起偏器、光弹调制器、光弹控制器和一维光栅组成,测量模块由两个检偏器、两个光电探测器、两个锁相放大器和计算机组成。本发明光源模块和测量模块位于待测双折射样品的同一端,可以通过单端扫描测量双折射样品的相位延迟量分布和快轴方位角分布,同时测量光束两次通过双折射样品,测量精度提高一倍。
搜索关键词: 线性 双折射 测量 装置 测量方法
【主权项】:
一种线性双折射测量装置,其特征在于其构成包括光源模块和测量模块,光源模块由准直光源(1)、起偏器(2)、光弹调制器(3)、光弹控制器(4)和一维光栅(5)组成,测量模块由第一检偏器(7)、第二检偏器(8)、第一光电探测器(9)、第二光电探测器(10)、第一锁相放大器(11)、第二锁相放大器(12)和计算机(13)组成,上述元部件的位置关系如下:准直光源(1)出射的光束通过起偏器(2)形成线偏振光,该线偏振光通过光弹调制器(3)引入周期性的相位调制,该光弹调制器(3)的峰值相位延迟量和工作波长由光弹控制器(4)通过输入面板设定;经光弹调制器(3)相位调制后的光束被所述的一维光栅(5)分成零级和±1级子光束,其中零级光束通过待测双折射样品(6)并在其后表面反射,反射光束再次通过一维光栅(5)并分成零级和±1级反射子光束,其中±1级反射子光束分别通过第一检偏器(7)和第二检偏器(8)后并分别被第一光电探测器(9)和第二光电探测器(10)接收,第一光电探测器(9)记录从第一检偏器(7)出射的光束光强并转变为电信号输入第一锁相放大器(11)的信号输入端,所述的光弹控制器(4)的输出端与第一锁相放大器(11)的参考信号端相连,第一锁相放大器(11)的输出信号通过串口输入计算机(13),所述的第二光电探测器(10)记录从第二检偏器(8)出射的光束光强并转变为电信号输入第二锁相放大器(12)的信号输入端,所述的光弹控制器(4)的输出端与第二锁相放大器(12)的参考信号输入端相连,第二锁相放大器(12)的输出信号通过串口输入计算机(13),该计算机(13)安装有与第一锁相放大器(11)和第二锁相放大器(12)配套的Signaloc 2100数据采集程序,该Signaloc 2100数据采集程序用于采集第一锁相放大器(11)和第二锁相放大器(12)输出信号的基频分量;所述的起偏器(2)的透振方向与光弹调制器(3)的快轴方向成45°夹角,所述的第一检偏器(7)和第二检偏器(8)的透振方向与光弹调制器(3)的快轴方向分别成0°和–45°夹角。
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