[发明专利]一种光外同轴超声波喷雾激光掺杂系统有效
| 申请号： | 201310250041.1 | 申请日： | 2013-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN103361733A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 沈辉;宋经纬;白路;王学孟 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | C30B31/20 | 分类号： | C30B31/20;H01L31/18 |
| 代理公司： | 广州知友专利商标代理有限公司 44104 | 代理人： | 李海波;侯莉 |
| 地址： | 510275 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光外同轴超声波喷雾激光掺杂系统，包括机架，还包括激光发射头与用于喷射经超声雾化的掺杂源的超声雾化喷嘴，所述超声雾化喷嘴至少为一个且安装在所述机架上，所述激光发射头和所述超声雾化喷嘴靠近设置且均位于待加工硅片的上方，使激光发射头射出的激光在待加工硅片表面形成激光光斑区域，而由超声雾化喷嘴喷射的掺杂源则汇聚于激光光斑区域上以实现激光加热同时使掺杂源扩撒。本发明可以实现同步掺杂，即激光加热同时使掺杂源扩撒，将现有技术中的涂覆掺杂源工序和激光扫描工序同步完成，简化了工艺步骤，而且，本发明系统结构简单，设备价格低廉，因此，生产成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 同轴 超声波 喷雾 激光 掺杂 系统 | ||
【主权项】：
一种光外同轴超声波喷雾激光掺杂系统，包括机架，其特征在于：还包括激光发射头与用于喷射经超声雾化的掺杂源的超声雾化喷嘴，所述超声雾化喷嘴至少为一个且安装在所述机架上，所述激光发射头和所述超声雾化喷嘴靠近设置且均位于待加工硅片的上方，使激光发射头射出的激光在待加工硅片表面形成激光光斑区域，而由超声雾化喷嘴喷射的掺杂源则汇聚于激光光斑区域上以实现激光加热同时使掺杂源扩撒。
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