[发明专利]一种真空干燥装置及光刻工艺有效
| 申请号： | 201310246884.4 | 申请日： | 2013-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN103353209A | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 陆忠;王军才;陈巍;李炳天;黄丽娟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | F26B9/06 | 分类号： | F26B9/06;F26B7/00;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及基板制造技术领域，特别涉及一种真空干燥装置及光刻工艺，用于提高光刻精度。本发明公开的真空干燥装置包括：具有排气孔和室门的真空室，与排气孔连通的抽真空装置，以及设置于真空室内的加热组件。采用该真空干燥装置对涂覆有光刻胶的基板进行真空干燥时，使加热和真空干燥同时作用在光刻胶上，以减少硬化膜的产生，从而减少光刻胶中溶剂的残留量，进而提高光刻精度。本发明同时还公开了一种光刻工艺，包括：在基板上涂覆光刻胶；采用具有上述特征的真空干燥装置对涂覆在基板上的光刻胶进行真空干燥及加热，真空度为500Pa～26Pa，加热温度30℃～90℃。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 干燥 装置 光刻 工艺 | ||
【主权项】：
一种真空干燥装置，其特征在于，包括：具有排气孔和室门的真空室，与所述排气孔连通的抽真空装置，以及设置于所述真空室内的加热组件。
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