[发明专利]用于在碳注入期间延长离子源寿命和改善离子源性能的组合物

摘要

提供了一种用于在碳注入期间延长离子源寿命和改善离子源性能的新型方法和系统。特别是，碳离子注入工艺包括利用包含一氧化碳和一种或更多种由式CxFy(其中x≥1且y≥1)表示的含有碳的含氟气体的掺杂物气体混合物。至少一种含有碳的含氟气体以基于掺杂物气体混合物的体积计约3‑12体积百分比(vol%)包含在混合物中。氟离子、自由基或其组合由电离的掺杂物气体混合物释放并且沿着反射电极、提取电极和室的表面中的至少一个与基本上由碳衍生的沉积物反应以减少沉积物的总量。这样，单个掺杂物气体混合物能够提供碳离子并且移除和消除在碳注入期间典型地遇到的宽范围的成问题的沉积物。

主权项

一种用于碳注入系统的气体组合物，其包括：离子源装置中的掺杂物气体混合物，其包含一氧化碳和一种或更多种由式CxFy表示的含有碳的含氟气体，其中x≥1且y≥1，所述混合物特征在于不存在附加的氧；其中所述含有碳的含氟气体为基于所述气体混合物的体积计1‑20体积百分比(vol％)的有效量；其中所述掺杂物气体混合物在碳注入期间在足以减少碳基沉淀物和氧化物基沉淀物的条件下释放碳离子以产生碳离子束。