[发明专利]一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法及设施无效
| 申请号： | 201310231814.1 | 申请日： | 2013-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN103340120A | 公开（公告）日： | 2013-10-09 |
| 发明（设计）人： | 王蕊;方旋;须晖;马健;李天来 | 申请（专利权）人： | 沈阳农业大学 |
| 主分类号： | A01G9/24 | 分类号： | A01G9/24 |
| 代理公司： | 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 | 代理人： | 张述学 |
| 地址： | 110866 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法，其特征在于采用直接在草莓高架栽培槽的栽培基质上布置管道支管，管道支管距离草莓植株5-8cm；冬季，提前给常压热水锅炉灌满水，加热水温至55~60℃，打开水泵，水流流经栽培基质上布置的管道，直接对草莓根圈环境进行加热，回水回到常压加热锅炉，通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在15~20℃；夏季，采用20~23℃的自来水温，无需加热，直接打开水泵，自来水流经栽培基质上布置的管道，直接对草莓根圈环境进行降温，回水回到常压加热锅炉，通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在23~25℃。本发明采用直接对草莓根圈环境加温或降温的方式，利于控制病虫害，利于草莓积累光合产物，利于提高根系活力，调温效果好，效率快，设备成本低，运行和维护费用少，同时节能，节水效果显著。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 日光温室 草莓 环境温度 方法 设施 | ||
【主权项】：
一种调节日光温室草莓根圈环境温度的方法，其特征在于：采用直接在草莓高架栽培槽的栽培基质上布置管道支管，各支管距离草莓基茎部位5~8cm；冬季，提前给常压热水锅炉灌满水，加热水温至55~60℃，打开水泵，水流流经栽培基质上布置的管道，直接对草莓根圈环境进行加热，回水回到常压加热锅炉，通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在15~20℃；夏季，采用20~23℃的自来水温，直接打开水泵，自来水流经栽培基质上布置的管道支管，直接对草莓根圈环境进行降温，回水回到常压加热锅炉，通过这一过程的不断循环维持草莓根圈环境温度在23~25℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳农业大学，未经沈阳农业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310231814.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
