[发明专利]导模法生长片状氧化镓晶体的方法无效
申请号: | 201310228710.5 | 申请日: | 2013-06-08 |
公开(公告)号: | CN103290471A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 尹继刚;杭寅;张连翰;何明珠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | C30B15/34 | 分类号: | C30B15/34;C30B29/16 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种导模法生长片状氧化镓晶体的方法,通过采用高纯度氧化稼粉末作为原料,选用顶端表面光洁度达到镜面效果的铱制模具;选用端面法向方向为<010>的β-Ga2O3单晶作为籽晶,用(100)面作为主生长面;在高纯CO2气氛下化料生长,化料结束后升温10~20℃,恒温1~2小时后进入生长阶段,整个晶体生长分为四个部分,即下种、缩颈、放肩和等径生长,在不同的生长阶段采用不同的工艺参数,直至完成整个生长过程,获得片状β-Ga2O3晶体。本发明制备的片状β-Ga2O3晶体具有外形规整、表面平坦、无气泡、无多晶、无应力条纹的特点。 | ||
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【主权项】:
一种导模法生长片状氧化镓晶体的方法,其特征在于该方法包括以下步骤:(1)原料的选取和处理:原料采用纯度为99.999%氧化稼粉末,经500~800℃的高温加热烘干3~5小时后备用;(2)模具的处理:采用铱制导模模具,其顶端内侧表面采用机械抛光处理,其粗糙度小于0.8μm,模具狭缝宽度为0.5mm,铱坩埚用去离子水洗净备用;(3)籽晶选取选用端面法向方向为<010>的β‑Ga2O3单晶作为籽晶,用(100)面作为主生长面;(4)采用导模法生长片状β‑Ga2O3晶体:①完成装炉后,将炉内抽真空1×10‑4Pa,缓慢充入高纯CO2气体至7bar后,静置20~30分钟,采用中频感应加热钨发热装置缓慢加热直至原料完全熔化,再静置20~30分钟,然后升温10~20℃并静置2~3小时,使原料中引入的气体从熔体中慢慢溢出;②下种:将熔体温度降回原料熔化时的温度后进入引晶阶段,下摇籽晶杆将籽晶降到与熔体相隔0.5~1cm的位置,若籽晶底部发白变圆润,则需摇起籽晶杆,降温5~10℃,静置10~20分钟后再次下摇籽晶杆观察,直至籽晶底端无变化即可继续下摇籽晶杆,使籽晶与熔体接后提起,如果带料,将温度升高2~4℃,静置5~10分钟后继续尝试,直至不带料即可进行步骤③;③提拉过程包括引晶、缩颈、扩肩和等径生长,其中引晶时晶体直径不变,长度提拉1~2cm;再通过提高拉速来实现缩颈,当缩颈完成后 将拉速控制在10mm/h左右,然后以2℃/h的速率降低整个体系的温度,当看到籽晶沿模具隙缝方向变大,变大则转入扩肩阶段,在放肩阶段,体系以15~18℃/h的速率降温,直到晶体完全覆盖整个模具,表明放肩阶段完成,应进入等径生长阶段;进入等径阶段,此时提拉速度控制在10mm/h,温度不变,直到生长结束时,快速提拉晶体,使其脱离模具;④晶体生长结束后,以每小时20~30℃的速率逐渐降至室温,获得没有气泡和多晶的片状β‑Ga2O3晶体。
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