[发明专利]一种隐形光子晶体打印方法有效

专利信息
申请号: 201310224883.X 申请日: 2013-06-06
公开(公告)号: CN103303013A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 陈乾旺;胡海波;唐健 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: B41M3/00 分类号: B41M3/00;B41M5/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵青朵;李玉秋
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种隐形光子晶体打印方法,包括以下步骤:将碳包覆的超顺磁性胶态纳米粒子分散于乙二醇中,得到含有纳米粒子的乙二醇溶液;将所述含有纳米粒子的乙二醇溶液与硅氧烷单体和固化剂混合搅拌,将得到的混合溶液成模、固化,得到聚硅氧烷打印基质;将具有图案的光掩膜覆盖于所述聚硅氧烷打印基质上,然后进行紫外光照射,紫外光破坏无图案覆盖区域的聚硅氧烷打印基质表面,得到隐形光子晶体图案。本发明提供的方法不仅可以实现光子晶体的彩色打印,而且可以实现图案的隐形,并且此图案可以在磁场诱导下立刻以鲜艳的颜色显现出来,具有良好的隐形-再现可逆性,该方法将在防伪,信息存储等领域具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 隐形 光子 晶体 打印 方法
【主权项】:
一种隐形光子晶体打印方法,包括以下步骤:将碳包覆的超顺磁性胶态纳米粒子分散于乙二醇中,得到含有胶态纳米粒子的乙二醇溶液;将所述含有纳米粒子的乙二醇溶液与硅氧烷单体和固化剂混合搅拌,将得到的混合溶液成模、固化,得到聚硅氧烷打印基质;将具有图案的光掩膜覆盖于所述聚硅氧烷打印基质上,然后进行紫外光照射,紫外光破坏无图案覆盖区域的聚硅氧烷打印基质表面,得到隐形光子晶体图案。
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