[发明专利]一种隐形光子晶体打印方法有效

专利信息
申请号: 201310224883.X 申请日: 2013-06-06
公开(公告)号: CN103303013A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 陈乾旺;胡海波;唐健 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: B41M3/00 分类号: B41M3/00;B41M5/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵青朵;李玉秋
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 隐形 光子 晶体 打印 方法
【权利要求书】:

1.一种隐形光子晶体打印方法,包括以下步骤:

将碳包覆的超顺磁性胶态纳米粒子分散于乙二醇中,得到含有胶态纳米粒子的乙二醇溶液;

将所述含有纳米粒子的乙二醇溶液与硅氧烷单体和固化剂混合搅拌,将得到的混合溶液成模、固化,得到聚硅氧烷打印基质;

将具有图案的光掩膜覆盖于所述聚硅氧烷打印基质上,然后进行紫外光照射,紫外光破坏无图案覆盖区域的聚硅氧烷打印基质表面,得到隐形光子晶体图案。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述乙二醇溶液中碳包覆的超顺磁性胶态纳米粒子的质量浓度为5mg/mL~15mg/mL。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碳包覆的超顺磁性胶态纳米粒子、硅氧烷单体和固化剂的质量比为(0.0025~0.0075):(2~4):(0.4~0.6)。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述搅拌的时间为5min~10min。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述固化的温度为60℃~100℃。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述固化的时间为1h~2h。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述光掩膜的材质为聚对苯二甲酸乙二酯、聚乙烯或聚丙烯。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述紫外光照射的时间为20min~60min。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷单体为二甲基硅氧烷、甲基环硅氧烷、氨基硅氧烷、甲基苯基硅氧烷或醚类硅氧烷。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述碳包覆的具有超顺磁性胶态纳米粒子的制备方法包括以下步骤:

向二茂铁的丙酮溶液中滴加过氧化氢,搅拌后得到混合溶液,所述二茂铁、丙酮和过氧化氢的质量比为(0.2~0.3):(23~32):(0.2~0.5);

将所述混合溶液进行加热反应,得到碳包覆的具有超顺磁性胶态纳米粒子。

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