[发明专利]包含改性PVA 的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体有效
| 申请号： | 201310222583.8 | 申请日： | 2013-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN103472519A | 公开（公告）日： | 2013-12-25 |
| 发明（设计）人： | 灰田信幸;后藤周作;喜多川丈治 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10;B32B27/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供包含改性PVA的偏振膜以及具有该偏振膜的光学叠层体。本发明提供偏振膜，构成该偏振膜的基体材料和PVA类树脂的密合性良好，并且在拉伸工序及搬运工序中，PVA类树脂不易从基体材料上剥离，具有优异的外观。本发明的偏振膜通过在基体材料上设置PVA类树脂的层、并对基体材料和PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到，PVA类树脂包含改性PVA，该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%～1.4mol%。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 改性 pva 偏振 以及 具有 光学 叠层体 | ||
【主权项】：
偏振膜，其通过在基体材料上设置PVA类树脂的层，并对所述基体材料和所述PVA类树脂的层一体地进行拉伸而得到，其中，所述PVA类树脂包含改性PVA，该改性PVA的存在量使得以所述PVA类树脂整体为基准的改性比例为0.04mol%～1.4mol%。
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