[发明专利]制备孔径均一不对称分离膜的方法有效

专利信息
申请号: 201310183510.2 申请日: 2013-05-17
公开(公告)号: CN103272501A 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 陈向荣;万印华;杭晓风 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: B01D71/80 分类号: B01D71/80;B01D69/10;B01D69/02;B01D67/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于高分子分离膜制备领域,特别涉及利用嵌段共聚物的自组装和浸没沉淀相转化法相结合制备孔径均一不对称分离膜的方法。具体的步骤如下:首先将嵌段共聚物按一定的质量百分浓度溶解于溶剂中,然后将完全溶解的嵌段共聚物溶液均匀地涂在基底上,控制溶剂的挥发时间,再将上述基底放入沉淀浴中,形成不对称膜。最后采用化学方法将形成分散相的链段刻蚀成孔,从而形成具有孔径均一的不对称分离膜。通过采用该方法,不仅可以方便地实现分离层和支撑层的一体化,从而提高膜的稳定性和机械性能,而且通过调节嵌段共聚物的分子量、化学组成、化学结构还可以精确控制分离膜的孔径和性能,从而赋予分离膜特殊的功能和性能。
搜索关键词: 制备 孔径 均一 不对称 分离 方法
【主权项】:
一种利用嵌段共聚物的自组装方法和传统的浸没沉淀相转化制膜法相结合,直接制备孔径均一的不对称分离膜的方法,其特征在于:首先将嵌段共聚物按一定的质量百分浓度溶解于溶剂中,然后将完全溶解的嵌段共聚物溶液均匀地涂在基底上,控制溶剂的挥发时间,将上述基底放入沉淀浴中,形成不对称膜;最后采用化学方法将形成分散相的链段刻蚀成孔,从而形成具有孔径均一的不对称分离膜。
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