[发明专利]三维多孔镍薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201310174939.5 | 申请日： | 2013-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN103243357A | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 黎学明;陈沛伶;李晓林;李武林;杨文静 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C25D3/12 | 分类号： | C25D3/12;C25D5/00 |
| 代理公司： | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人： | 张群峰;范晓斌 |
| 地址： | 400030 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | 三维多孔镍薄膜的制备方法，包括：提供紫铜片作为阴极并提供镍片作为阳极；配制电镀液，所述电镀液中NiSO4含量为1.0～2.0mol/L，H2SO4含量为0.1～0.3mol/L，H3BO3含量为0.8～1.0mol/L，NH4Cl含量为1.0～2.0mol/L，表面活性剂总含量为0.7～1.4g/L；以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极，采用氢气泡动态模板电沉积法在所述紫铜片上形成三维多孔镍薄膜。根据本发明的方法所制备的多孔镍薄膜孔径均匀，孔隙率高并且稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 多孔 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种三维多孔镍薄膜的制备方法，包括：提供紫铜片作为阴极并提供镍片作为阳极；配制电镀液，所述电镀液中NiSO4含量为1.0～2.0mol/L，H2SO4含量为0.1～0.3mol/L，H3BO3含量为0.8～1.0mol/L，NH4Cl含量为1.0～2.0mol/L，表面活性剂总含量为0.7～1.4g/L；以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极，采用氢气泡动态模板电沉积法在所述紫铜片上形成三维多孔镍薄膜。
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