[发明专利]描画装置及描画方法

摘要

本发明提供一种描画装置及描画方法，能够简单地进行用于缓解边界部分的曝光不均匀的调整。在描画装置（1）中，接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数规定光学单元（40）所具有的多个调制单位（442）在排列方向上的位置与射出率之间的关系。然后，根据所接受的形状类型，调整多个调制单位（442）的各自的射出率。然后，一边从光学单元（40）射出剖面呈带状的描画光，一边使光学单元（40）相对于基板（W）沿着与描画光的长度方向垂直的方向移动，由此对基板（W）执行描画处理。

主权项

一种描画装置，其通过对形成有感光材料的基板照射光，来在所述基板上描画图案，其特征在于，具有：光学单元，其一边射出剖面呈带状的描画光，一边相对于所述基板沿着与所述描画光的长度方向垂直的方向移动，调整部，其调整沿着所述描画光的长度方向的光量分布；所述光学单元具有：光源部，其射出剖面呈带状的光，空间光调制部，其具有排列成一列的多个调制单位，所述空间光调制部使从所述光源部射出的光入射到多个所述调制单位，并且使多个所述调制单位对入射的所述光进行调制，以形成所述描画光，其中，从所述光源部射出的光的长度方向与多个所述调制单位的排列方向一致；所述调整部具有：接受部，其接受从多个形状类型候补中选择射出率函数的形状类型的选择操作，其中，所述射出率函数是规定所述调制单位在排列方向上的位置与射出率之间的关系的函数，所述射出率是射出光量与入射到所述调制单位的入射光量的比，射出率调整部，其根据所述接受部接受的形状类型，对多个所述调制单位中的各个调制单位的所述射出率进行调整。