[发明专利]一种用于光刻设备的硅片对准光源系统

摘要

本发明提出一种用于光刻设备的硅片对准光源系统，其特征在于包括光源模块，光强调制模块，光纤模块，光电探测模块，AD采集模块，相位调整模块，控制模块以及对准探测模块；所述光源模块发出的光经过所述光强调制模块幅度调制，并通过所述光纤模块后一路进入所述对准探测模块；另一路经过所述光电探测模块进行光电转换，所述AD采集模块采集和所述相位调整模块校准后，经过所述控制模块对所述光强调制模块进行控制。本发明提出的基于光源内部幅度调制的硅片对准光源系统，对光源的波动量进行调校，大幅降低硅片对准系统的开发成本，缩小系统的空间结构尺寸，提高了信号的抗干扰性和对准重复精度。

主权项

一种硅片对准光源系统的对准方法，其特征在于包括如下步骤：步骤一，开启光源模块，控制模块设定光强幅值，调制模块产生调制信号；步骤二，所述调制信号分为两路，一路作为参考信号输入至相位调整模块，另一路对光源模块输出的光束进行调制，调制光经过光纤模块输出至光电探测模块获得光电探测信号，并由AD采集模块接收和采集；步骤三，相位调整模块产生采集控制信号反馈给AD采集模块，保证AD采集模块每次都可以采集到峰值，即光强幅值；步骤四，AD采集模块对光电探测信号采集光强幅值数据，并反馈给控制模块；步骤五，控制模块比对步骤一设定的光强幅值与步骤四所采集到的光强幅值以获得光强的波动量，通过反馈控制光源模块的输出，保证光源模块的输出功率稳定；步骤六，进行对准探测。