[发明专利]一种用于EUV真空环境中的电子学装置有效
| 申请号： | 201310172932.X | 申请日： | 2013-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN103268058A | 公开（公告）日： | 2013-08-28 |
| 发明（设计）人： | 宗明成;孙裕文;徐天伟;黄有为 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 刘丽君 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。该装置能够有效的避免电子学系统产生的污染物进入EUV真空腔中，减少了对EUV真空环境的污染，保证了EUV光的传输效率；通过温控器和导热件对密封壳体内的电子学系统的控温作用，保证电子学系统的正常工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 euv 真空 环境 中的 电子学 装置 | ||
【主权项】：
一种用于EUV真空环境中的电子学装置，位于一真空腔中，所述真空腔用于提供EUV光存在环境，其特征在于：所述电子学装置包括：一电子学系统，所述电子学系统位于所述真空腔内，且所述电子学系统用于实现EUV光刻系统的电子学功能；一密封壳体，所述密封壳体位于所述真空腔内，且所述密封壳体用于密封所述电子学系统，阻挡所述电子学系统所形成的污染物进入所述真空腔中。
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