[发明专利]偏振片的制造方法、偏振片、偏光板、光学薄膜和图像显示装置有效

专利信息
申请号: 201310169555.4 申请日: 2013-05-09
公开(公告)号: CN103389535B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 后藤周作;中野勇树;池岛健太郎;尾込大介;矢仙姆尼里汀 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/04;G02F1/1335
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇,李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种偏振片的制造方法、偏振片、偏光板、光学薄膜和图像显示装置。该偏振片的制造方法是对包含成膜于热塑性树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层的层叠体至少实施染色工序和拉伸工序而制造厚度10μm以下的偏振片的方法,在染色工序中,即使使用高浓度的二色性物质的染色浴时,也能够满足偏振片的特性(单体透过率、偏光度)。在对包含成膜于热塑性树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层的层叠体至少实施染色工序和拉伸工序而制造厚度10μm以下的偏振片的方法中,在染色工序之后的至少一个工序中,利用含有至少一种水溶性抗氧化剂的处理浴进行处理。
搜索关键词: 偏振 制造 方法 偏光 光学薄膜 图像 显示装置
【主权项】:
一种偏振片的制造方法,其特征在于,在对包含成膜于热塑性树脂基材上的聚乙烯醇系树脂层的层叠体至少实施染色工序和拉伸工序而制造厚度10μm以下的偏振片的方法中,在染色工序之后的至少一个工序中,利用含有至少一种水溶性抗氧化剂的处理浴进行处理,所述染色工序为碘染色工序,所述处理浴中的水溶性抗氧化剂的浓度为0.005重量%‑1重量%,所述含有水溶性抗氧化剂的处理浴的处理液在作为5倍稀释溶液测定时的波长350nm附近的吸光度为10以下。
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