[发明专利]基于PDMS的功能性高分子图案化方法

摘要

本发明涉及一种基于PDMS的功能性高分子图案化方法，首先采用光刻方法在光刻胶表面获得所需的微纳尺寸的图形，在图案化的光刻胶表面涂未交联的有机材料PDMS，待交联后揭下，完成软模板的制作，将软模板有结构的一面压在璇涂有功能性高分子的衬底上，通过热压印或者紫外压印，即可实现不同功能性高分子的图案化。无需硬质模板作为初始结构定义，只需光刻胶图案化即可。同时，初始定义所用的PMMA模板无需防粘处理，即可对PDMS的图形转移，减少实验步骤，降低转移成本，提高图案的保真度。并且，对PDMS软模板无需防粘处理。同时，对最终衬底B平整度要求低，可以实现大范围特征结构的压印。

主权项

基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于包括以下步骤：步骤①，采用光刻方法在涂有光刻胶的硬质基底A表面加工出需要的微纳结构图形，获取带有图案化光刻胶的硬质基底A，作为压印转移过程中的结构定义的原始基板；步骤②，在带有图案化光刻胶的硬质基底A表面璇涂或是滴涂有机材料PDMS，并置于真空干燥箱内；步骤③，待充分交联后，将PDMS软模板从上述硬质基底A上揭下来，待用；步骤④，选取对应的硬质基底B，用于承载最后的图案化功能性高分子，在硬质基底B表面璇涂功能性高分子薄膜，将从硬质基底A上撕下的PDMS软模板有结构的面覆盖在璇涂有高分子的基底B上，放入压印机，选择合适的压印条件，实现功能性高分子薄膜的图案化；步骤⑤，通过干法刻蚀工艺，去除底胶；步骤⑥，重复步骤④、步骤⑤，实现快速批量微纳结构的高保真压印。