[发明专利]基于PDMS的功能性高分子图案化方法

权利要求书

1.基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于包括以下步骤：

步骤①，采用光刻方法在涂有光刻胶的硬质基底A表面加工出需要的微纳结构图形，获取带有图案化光刻胶的硬质基底A，作为压印转移过程中的结构定义的原始基板；

步骤②，在带有图案化光刻胶的硬质基底A表面璇涂或是滴涂有机材料PDMS，并置于真空干燥箱内；

步骤③，待充分交联后，将PDMS软模板从上述硬质基底A上揭下来，待用；

步骤④，选取对应的硬质基底B，用于承载最后的图案化功能性高分子，在硬质基底B表面璇涂功能性高分子薄膜，将从硬质基底A上撕下的PDMS软模板有结构的面覆盖在璇涂有高分子的基底B上，放入压印机，选择合适的压印条件，实现功能性高分子薄膜的图案化；

步骤⑤，通过干法刻蚀工艺，去除底胶；

步骤⑥，重复步骤④、步骤⑤，实现快速批量微纳结构的高保真压印。

2.根据权利要求1所述的基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于：步骤①所述的光刻胶为PMMA系列电子束曝光光刻胶。

3.根据权利要求1所述的基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于：步骤②所述的有机材料PDMS配比为10∶1。

4.根据权利要求1所述的基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于：步骤④所述的璇涂速度为500rpm至8000rpm，璇涂厚度为50nm至2um。

5.根据权利要求1所述的基于PDMS的功能性高分子图案化方法，其特征在于：步骤④所述的合适的压印条件包括温度、压强、固化条件，所述的压强为0-70bar，所述的温度为室温-300摄氏度，所述的固化条件为紫外压印。