[发明专利]用于光刻设备的预对准装置及方法有效
| 申请号： | 201310130183.4 | 申请日： | 2013-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN104111595A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 郑教增;孙伟旺 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于光刻设备的预对准装置，包括：定心单元，用于承载硅片进行直线运动，以补偿硅片偏心；定向单元，用于旋转所述硅片和确定硅片的缺口位置；图像采集单元，用于采集所述硅片的边缘及缺口信息；数据处理单元，用于处理所述采集信息和滤除所述采集信息中的干扰信息。本发明同时公开了一种用于光刻设备的预对准方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 对准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻设备的预对准装置，其特征在于，包括： 定心单元，用于承载硅片进行直线运动，以补偿硅片偏心； 定向单元，用于旋转所述硅片和确定硅片的缺口位置； 图像采集单元，用于采集所述硅片的边缘及缺口信息； 数据处理单元，用于处理所述采集信息和滤除所述采集信息中的干扰信息。
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