[发明专利]一种薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310128703.8 | 申请日: | 2013-04-15 |
公开(公告)号: | CN104099586B | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 高云霞;刘静 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;C23C18/48;C23C8/10;C23C8/24 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 王朋飞 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种薄膜的制备方法,先取含有氧化镓或氧化铟的金属混合液涂到基底表面,再通过水流或气体对基底表面进行吹扫,从而在基底表面形成纳米量级薄膜。本发明薄膜的制备方法简单,成本低廉,适宜推广使用,可在热管理、机械、电子、化学、半导体、医药卫生、生物等领域中发挥重要作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜的制备方法,其特征在于,将含有氧化镓和/或氧化铟的金属混合液喷涂到基底表面,再通过氮气或惰性气体对基底表面进行吹扫,得到纳米量级薄膜;所述氧化镓和/或氧化铟占金属混合液的质量百分比为0.05‑5%;所述金属混合液熔点小于200℃;所述氮气或惰性气体的吹扫压力为2‑20MPa,吹扫距离为2‑100mm,吹扫移动速率为0.1‑10cm/min。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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