[发明专利]全谱直读直流电弧发射光谱分析法用缓冲剂在审
申请号: | 201310125721.0 | 申请日: | 2013-04-12 |
公开(公告)号: | CN104101592A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 张勤;张雪梅;郝志红;姚建贞;唐瑞玲;于兆水 | 申请(专利权)人: | 中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所 |
主分类号: | G01N21/67 | 分类号: | G01N21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 065000*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明属于光谱分析技术领域,尤其涉及一种全谱直读直流电弧发射光谱分析法用缓冲剂,其特征在于:所述缓冲剂各组分按质量比例组成为:三氧化二铝∶氟化钠∶焦硫酸钾∶碳粉∶二氧化锗=48∶18∶26∶8∶0.0007,其中所述二氧化锗为内标。本发明的有益效果为:将分析样品与本发明的缓冲剂混合后再进行直流电弧激发,可以克服弧烧温度不稳定的难题,并能有效改善各元素的蒸发行为,进而有利于一次曝光多元素同时分析,采用本发明的缓冲剂后,不仅大大降低了光谱背景,改善了测定精密度,提高了测定灵敏度和准确度,而且使得仪器对元素同时测量的范围更广。 | ||
搜索关键词: | 直读 直流 电弧 发射光谱分析 缓冲剂 | ||
【主权项】:
一种全谱直读直流电弧发射光谱分析法用缓冲剂,其特征在于所述缓冲剂各组分按质量比例组成为:三氧化二铝∶氟化钠∶焦硫酸钾∶碳粉∶二氧化锗=48∶18∶26∶8∶0.0007,其中所述二氧化锗为内标。
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