[发明专利]适用在图案化的蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板的形成方法无效
| 申请号： | 201310103785.0 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN104037270A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 黃永发 | 申请（专利权）人： | 德晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 中国台湾台北市大安*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种适用在图案化的蓝宝石基板结构及图案化蓝宝石基板的形成方法。图案化的蓝宝石基板适用在作为发光元件的基板。蓝宝石基板结构包括光阻层、光阻下层及蓝宝石基板。光阻层为均质层，其材质为G线光阻、I线光阻、248nm DUV光阻或193nm Arf光阻，且具有平坦表面。光阻下层为均质层，其材质为有机化合物或无机化合物，且具有平坦表面。蓝宝石基板为使用长晶技术所形成，光阻层及光阻下层为使用涂布技术所形成。在蓝宝石基板结构形成后，依序通过曝光/显影程序、蚀刻程序及清除程序使蓝宝石基板结构逐步转换成为图案化蓝宝石基板。 | ||
| 搜索关键词： | 适用 图案 蓝宝石 板结 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种适用在图案化的蓝宝石基板结构，其特征在于，包含：蓝宝石基板；光阻下层，覆盖在所述蓝宝石基板上；以及光阻层，覆盖在所述光阻下层上，所述光阻层用于在经过曝光/显影程序后对所述光阻下层及所述蓝宝石基板进行蚀刻程序。
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